在半導體工業中漂洗水里所含的有機化合物會影響產品的產量和質量。因此規定水中的總有機碳（TOC）污染物的含量不得超過百萬分之一（ppb），即在此應用中只能適用超純水。
紫外照射技術的最新發展使其成功地引入半導體、制藥、化妝品，保健品等工業的超純水制造中，此項技術不僅在消毒方面發揮巨大作用，在降低TOC，去除臭氧和氯方面也效果顯著。
制藥業和其他行業的生產過程，由于生產工藝要求易造成微生物污染和生物污染，而紫外線可以作為一道有效的屏障，確保純化水水質不對任意生產工藝或階段產生影響，同時確保工藝下游的處理設備也能最優運行，從而減少停機頻次或時間。
在這一應用使用兩種UV波長，254nm和185nm，254nm波長的紫外光用于消毒作用，同事能破壞水中殘留臭氧分子。185nm輻射能分解有機物分子，他比254nm波長能量更高。能從水分子中分解出自由羥基，從而將有機物氧化分解成CO2和水，從而降低了水中的TOC含量。
產品介紹：
高強度臭氧紫外線殺菌燈，SUS304不銹鋼材質，具有良好的殺菌效果，有效減少對超純水的影響。
安全可靠：設備耐壓0.6MPa，防護等級IP68，紫外零泄漏，
安裝簡單，設備維護方便，現場人員即能完成操作和維護。
沒有任何化學物質的參與，不影響產品的穩定性。不會含有任何不需要的化學殘留物、顏色或者氣味。
